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J-GLOBAL ID：200902240970627637   整理番号：05A0214918

窒化ニオブと窒化タンタルの化学蒸着(CVD)の分子状前駆体

Molecular precursors for the CVD of niobium and tantalum nitride

著者 (6件)： BLEAU J E (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  CARMALT C J (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  O’NEILL S A (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  PARKIN I P (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  WHITE A J P (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  WILLIAMS D J (Univ. Coll. London, London, GBR)
資料名： Polyhedron  (Polyhedron)
巻： 24  号： 3  ページ： 463-468  発行年： 2005年02月17日 
JST資料番号： C0301B  ISSN： 0277-5387  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トルエン中にNbCl₅を懸濁させ,過剰...

シソーラス用語： *ニオブ錯体 ,...

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分類 (3件)： 第4族,第5族元素の錯体  (CE01070U) ,  塩  (CD01050V) ,  遷移金属元素(鉄族元素を除く)の錯体の結晶構造  (BK09030X)

物質索引 (2件)： トリメチルシランアミン ,  3,5-ジメチルピリジン

タイトルに関連する用語 (6件)： 窒化ニオブ ,  窒化タンタル ,  化学蒸着 ,  CVD ,  分子状 ,  前駆体