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J-GLOBAL ID：200902242239887592   整理番号：08A0453001

一軸磁気異方性CoFeB薄膜の磁壁移動特性

Characteristics of Domain Wall Motion in CoFeB Films with Inplane Uniaxial Magnetic Anisotropy

著者 (5件)： 渡辺剛 (九州工大 情報工) ,  角保延寿 (九州工大 情報工) ,  古野達也 (九州工大 情報工) ,  大越正敏 (九州工大 情報工) ,  宗像誠 (崇城大 エネルギーエレクトロニクス研)
資料名： Journal of the Magnetics Society of Japan  (Journal of the Magnetics Society of Japan)
巻： 32  号： 3  ページ： 317-320  発行年： 2008年05月01日 
JST資料番号： Z0944A  ISSN： 1882-2924  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 磁気ヘッドや薄膜インダクタなどの高周波デバイスに適用できる軟磁性Co₃₈Fe₄₇B₁₅薄膜内の磁壁移動特性を磁気光学Kerr観察システムを用いて研究した。交流励磁における磁壁保磁力は0.5Oeと低く,磁壁移動の飽和速度は50m/s,磁壁移動度は磁壁共鳴周波数220kHz付近で最大12m/sOeに達した。高飽和磁化Co₃₅Fe₆₅膜では磁壁保磁力は4Oeと高く,制動係数も大きかった。Co₃₈Fe₄₇B₁₅薄膜の方が高周波特性に優れていることが分かった。磁壁移動特性の膜構造依存性の解明が今後の課題である。

シソーラス用語： *鉄合金 ,  コバルト含有合金 ,  ホウ素含有合金 ,  *軟磁性材料 ,  *一軸磁気異方性 ,  磁性薄膜 ,  磁壁 ,  保磁力 ,  磁区構造 ,  共振周波数 ,  飽和磁化 ,  磁気光学効果 ,  磁気ヘッド ,  薄膜インダクタ ,  *磁化反転
準シソーラス用語： *磁壁移動

分類 (2件)： 金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  金属薄膜  (BK14030T)

引用文献 (7件)：

• 1) M. Munakata, S-I. Aoqui, and M. Yagi: IEEE Trans. Magn., 41, 3262 (2005).
• 2) K. Araqui, M. Munakata, M. Namikawa, M. Yagi, and Y. Shimada: J. Magn. Soc. Jpn., 28, 997 (2004).
• 3) A. J. Moses, P. I. Williams, and O. A. Hoshtanar: IEEE. Trans. Magn., 41, 3736 (2005).
• 4) T. Watanabe, M. Munakata, and M. Ohkoshi: phys. stat. sol. (a), 204, 3983 (2007).
• 5) M. Namikawa, M. Munkata, M. Yagi, M. Motoyama, Y. Shimada, S. Yabukami, M. Yamaguchi, and K. I. Arai: J. Magn. Soc. Jpn., 27, 371 (2003).

タイトルに関連する用語 (3件)： 一軸磁気異方性 ,  薄膜 ,  磁壁移動