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J-GLOBAL ID：200902242553315455   整理番号：05A0542185

反応性マグネトロンスパッタリングによるふっ素化非晶質炭素膜の合成とキャラクタリゼーション

Synthesis and characterization of fluorinated amorphous carbon films by reactive magnetron sputtering
著者 (6件)：
ISHIHARA M.

ISHIHARA M. について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について

, 
SUZUKI M.

SUZUKI M. について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について

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WATANABE T.

WATANABE T. について

(Mitsubishi Heavy Ind., LTD., Kanagawa, JPN)

Mitsubishi Heavy Ind., LTD., Kanagawa, JPN について

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NAKAMURA T.

NAKAMURA T. について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について

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TANAKA A.

TANAKA A. について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について

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KOGA Y.

KOGA Y. について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN について


資料名：
Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)

Diamond and Related Materials について


巻： 14  号： 3/7  ページ： 989-993  発行年： 2005年03月 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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ふっ素を取込んだ非晶質炭素は低い誘電性,熱安定性及び高い機械...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*蒸着膜

蒸着膜 について

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分類 (1件)：
分類
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半導体薄膜 
(BK14040E)

半導体薄膜 について

物質索引 (1件)：
物質索引
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四ふっ化炭素

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タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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反応性マグネトロンスパッタリング

反応性マグネトロンスパッタリング について

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ふっ素化

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非晶質

非晶質 について

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炭素膜

炭素膜 について

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キャラクタリゼーション

キャラクタリゼーション について


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