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J-GLOBAL ID：200902243268641310   整理番号：06A0557395

分光偏光解析法によるマスクのかすみの測定

Mask Haze Measurement by Spectroscopic Ellipsometry

著者 (5件)： KIM Young-Hoon (Hanyang Univ., Kyunggi-Do, KOR) ,  KIM Sung-Hyuck (Samsung Electronics Co., Gyeonggi-Do, KOR) ,  CHO Han-Koo (Samsung Electronics Co., Gyeonggi-Do, KOR) ,  AN Ilsin (Hanyang Univ., Kyunggi-Do, KOR) ,  OH Hye-Keun (Hanyang Univ., Kyunggi-Do, KOR)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45  号： 6B  ページ： 5388-5390  発行年： 2006年06月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レチクルにおけるかすみの形成は,依然として半導体産業における...

シソーラス用語： 混濁 ,...

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分類 (2件)： 偏光測定と偏光計  (BD07050K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (4件)：

• K. Badger, S. Butt, J. Burnham, T. Faure, M. Hibbs, J. Rankin, D. Thibault and A. Watts: Proc. SPIE 5752(2005)673.
• Y. D. Kim, H. B. Kang, Y. Zhang, C. Tran, N. Farrar, J. Qin, B. Rockwell, H. J. Cho, R. Cottle, D. Chan, P. Martin, S. S. Choi and C. Progler: Proc. SPIE 5754(2004)1586.
• S. J. Han, S. Y. Yu, M. G. Sung, Y. H. Kim, H. S. Yoon and J. M. Sohn: Proc. SPIE 5130(2003)563.
• I. An: Ellipsometry (Hanyang University Press, Seoul, 2002).

タイトルに関連する用語 (2件)： 分光偏光解析法 ,  マスク