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J-GLOBAL ID：200902244584637046   整理番号：08A0904176

化学蒸着法で調製した暗褐色のSnO₂膜の性質

Nature of dark-brown SnO₂ films prepared by a chemical vapor deposition method

著者 (3件)： MATSUSHIMA Yuta (Div. of Advanced Materials Sci. and Technol., Tokyo Univ. of Agriculture and Technol.) ,  MAEDA Kazuyuki (Div. of Advanced Materials Sci. and Technol., Tokyo Univ. of Agriculture and Technol.) ,  SUZUKI Takeyuki (Div. of Advanced Materials Sci. and Technol., Tokyo Univ. of Agriculture and Technol.)
資料名： Journal of the Ceramic Society of Japan  (Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻： 116  号： 1357  ページ： 989-993 (J-STAGE)  発行年： 2008年 
JST資料番号： F0382A  ISSN： 1882-0743  CODEN： JCSJEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 限定した酸素供給条件下でのCVDプロセスにより暗褐色のSnO₂膜が生成することを最近見出したので,この研究ではその性質を調べた。それらの膜は管状炉内で350~600°CでSnCl₂からに蒸着した。この膜は基板に垂直に<100>に沿って高い優先配向を持つルチル型構造を持っていた。熱重量分析と元素分析は,酸素空孔(V_O)とCl汚染が膜に起こったのを明らかにした。350°Cで調製したままの膜は1.5×10²¹/cm³のV_Oを含んでおり,約2.5%のOサイト空孔に対応した。他方では,350°Cで調製した膜には7.4×10⁷²⁰/cm³のClが含まれていた。Cl濃度は,蒸着温度に従って減少して,600°Cで1.8×10²⁰/cm³になった。この膜は適度の電気伝導率を示し,500°Cで蒸着した膜は2.5×10^-2Ωcmの最低の抵抗率を持つことを示し,キャリア密度とホール移動度はそれぞれ1.3×10²⁰cm³と2.0cm²/(Vs)であった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化スズ ,  セラミック膜 ,  化学蒸着 ,  蒸着膜 ,  塩化スズ ,  酸素 ,  色 ,  空孔欠陥 ,  塩素 ,  電気伝導率

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (31件)：

• 1) J. L. Jacquemin and G. Bordure, J. Phys. Chem. Solids, 36, 1081-1087 (1975).
• 2) I. Tanaka, F. Oba, K. Tatsumi, M. Kunisu, M. Nakano and H. Adachi, Mater. Trans., 43, 1426-1429 (2002).
• 3) C. Kilic and A. Zunger, Phys. Rev. Lett., 88, 095501/1-4 (2002).
• 4) S. Samson and C. G. Fonstad, J. Appl. Phys., 44, 4618-4621 (1973).
• 5) E. Shanthi, A. Banerjee and K. L. Chopra, Thin Solid Films, 88, 93-100 (1982).

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学蒸着法 ,  調製 ,  SnO2 ,  性質