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J-GLOBAL ID：200902246075869496   整理番号：03A0836895

低誘電率から極低誘電率のSiCOH膜の構造 Fourier変換赤外分光による特性評価

Structure of low dielectric constant to extreme low dielectric constant SiCOH films: Fourier transform infrared spectroscopy characterization
著者 (2件)：
GRILL A

GRILL A について

(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)

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, 
NEUMAYER D A

NEUMAYER D A について

(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)

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資料名：
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

Journal of Applied Physics について


巻： 94  号： 10  ページ： 6697-6707  発行年： 2003年11月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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PECVDによりSiCOH薄膜をテトラメチルシクロテトラシロ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*誘電率

誘電率 について

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シソーラス用語/準シソーラス用語
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橋架け

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分類 (2件)：
分類
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酸化物薄膜 
(BK14050P)

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,  誘電体一般 
(BM05010F)

誘電体一般 について

物質索引 (1件)：
物質索引
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1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン

1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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低誘電率

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, 
Fourier変換赤外分光

Fourier変換赤外分光 について

, 
特性評価

特性評価 について


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