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J-GLOBAL ID：200902246272883980   整理番号：08A0893352

フェムト秒レーザパルスによるガラス基板と銅基板の直接溶接

Direct Welding between Copper and Glass Substrates with Femtosecond Laser Pulses

著者 (11件)： OZEKI Yasuyuki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  INOUE Tomoyuki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAMAKI Takayuki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAMAKI Takayuki (Nara National Coll. Technol., Nara, JPN) ,  YAMAGUCHI Hideaki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ONDA Satoshi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  WATANABE Wataru (National Inst. Advanced Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  SANO Tomokazu (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NISHIUCHI Shumpei (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HIROSE Akio (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  ITOH Kazuyoshi (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 1  号： 8  ページ： 082601.1-082601.3  発行年： 2008年08月25日 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フェムト秒レーザパルスを用いてガラス基板と銅基板を直接微細溶接した。接合強度は>16MPaであった。試料の走査電子顕微鏡断面画像から空孔欠陥や亀裂の無い接合を実証した。また,ナノ秒パルスと比べ,フェムト秒パルスは溶接に必要なパルスエネルギーを二桁低下させ,熱影響を抑えて溶接領域を精密に制御できた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フェムト秒 ,  *レーザパルス ,  *レーザ溶接 ,  付着強さ ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  熱影響 ,  基板 ,  電気装置部品 ,  ガラス基板 ,  銅基板 ,  *レーザ応用 ,  *利用
準シソーラス用語： 接合強度

分類 (1件)： 溶接技術  (WC07030G)

引用文献 (8件)：

• TAN, A. Sens. Actuators A. 2005, 120, 550
• UTSUMI, A. J. Laser Micro/Nanoeng. 2007, 2, 133
• TAMAKI, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, L687
• WATANABE, W. Appl. Phys. B. 2007, 87, 85
• WATANABE, W. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 021106

タイトルに関連する用語 (4件)： フェムト秒レーザパルス ,  ガラス基板 ,  銅基板 ,  溶接