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J-GLOBAL ID：200902247141761614   整理番号：08A0953924

プラズモン増強を利用した非線形光化学反応によるフォトレジストのナノパターニング

著者 (6件)： 高畠聡章 ,  上野貢生 ,  西島喜明 ,  MIZEIKIS Vygantas ,  JUODKAZIS Saulius ,  三澤弘明
資料名： 光化学討論会講演要旨集  (Annual Meeting on Photochemistry)
巻： 2008  ページ： 145  発行年： 2008年09月11日 
JST資料番号： L0850A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： プラズマ処理 ,  *プラズモン ,  非線形光学 ,  *フォトレジスト ,  *パターン形成 ,  フォトリソグラフィー ,  金 ,  フォトマスク ,  高分子膜 ,  ノボラック ,  レーザ照射 ,  フェムト秒 ,  走査電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  *光分解 ,  間隙 ,  フルオロ酸 ,  アンチモン化合物 ,  反応抑制剤 ,  スルフィド ,  芳香族化合物 ,  マスク
準シソーラス用語： *ナノパターニング ,  ナノギャップ

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  芳香族単環スルホキシド・スルホン・スルホニウム  (CF05130Q)

物質索引 (2件)： ジフェニルスルフィド ,  4-(フェニルチオ)フェニルジフェニルスルホニウム

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズモン ,  増強 ,  非線形 ,  光化学反応 ,  フォトレジスト ,  ナノパターニング