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J-GLOBAL ID：200902247454835058   整理番号：07A0934360

シリコンフォトニクスの現状と将来

著者 (1件)： 木村忠正 (電通大)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 35  号： 9  ページ： 548-549  発行年： 2007年09月15日 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Siフォトニクス(SP)の由来,その特徴と開発の現状,将来の...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： ナノフォトニクス ,...

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分類 (2件)： 光集積回路,集積光学  (BD06050D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (5件)：

• ITRS INTERNATIONAL TECHNOLOGY ROADMAP FOR SEMICONDUCTORS. 2005
• LEE, K. K. Opt. Lett. 2001, 26, 1888
• LIU, A. Nature. 2004, 427, 615
• JACOBSEN, R. S. Nature. 2006, 441, 199
• NOTOMI, M. Phys. Rev. Lett. 2001, 87, 253902

タイトルに関連する用語 (3件)： シリコンフォトニクス ,  現状 ,  将来