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J-GLOBAL ID：200902247562956805   整理番号：07A0878197

PVD法による多孔質Al膜の形成に及ぼす異種添加元素および基板凹凸の影響

著者 (5件)： 藤井隆志 (北大 大学院) ,  伏見公志 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院) ,  牧野猛 (日本ケミコン) ,  小野昭二 (日本ケミコン)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 116th  ページ： 52  発行年： 2007年09月11日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *物理蒸着 ,...
準シソーラス用語： キャパシタ ,...

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分類 (2件)： LCR部品  (NA05030D) ,  化成処理  (WC08050J)

タイトルに関連する用語 (5件)： PVD ,  多孔質 ,  Al膜 ,  添加元素 ,  凹凸