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J-GLOBAL ID：200902247922836474   整理番号：07A0820271

熱安定金属-絶縁体-金属コンデンサを可能にするSiO₂混合による高κ正方晶系HfO₂の安定化

Stabilization of higher-κ tetragonal HfO2 by SiO2 admixture enabling thermally stable metal-insulator-metal capacitors

著者 (11件)： BOESCKE T. S. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  GOVINDARAJAN S. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  KIRSCH P. D. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  HUNG P. Y. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  KRUG C. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  LEE B. H. (SEMATECH, 2706 Montopolis Dr., Austin, Texas, 78741) ,  HEITMANN J. (Qimonda Dresden GmbH & Co. OHG, Koenigsbruecker Str. 180, 01099 Dresden, DEU) ,  SCHROEDER U. (Qimonda Dresden GmbH & Co. OHG, Koenigsbruecker Str. 180, 01099 Dresden, DEU) ,  PANT G. (Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, Richardson, Texas 75080) ,  GNADE B. E. (Dep. of Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, Richardson, Texas 75080) ,  KRAUTSCHNEIDER W. H. (Technical Univ. of Hamburg-Harburg, Dep. of Nanoelectronics, 21071 Hamburg, DEU)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 91  号： 7  ページ： 072902-072902-3  発行年： 2007年08月13日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： HfO₂結晶相とそれの帰結としての電気...

シソーラス用語： MIM構造 ,...
準シソーラス用語： *MIMコンデンサ

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分類 (1件)： LCR部品  (NA05030D)

タイトルに関連する用語 (7件)： 絶縁体 ,  コンデンサ ,  SiO2 ,  高 ,  正方晶系 ,  HfO2 ,  安定化