193nmにおける水イマーションリソグラフィーの開口数へのアプローチ

SMITH B W; BOUROV A; FAN Y; ZAVYALOVA L; LAFFERTY N; CROPANESE F

文献

J-GLOBAL ID：200902248233370766 整理番号：04A0600946

193nmにおける水イマーションリソグラフィーの開口数へのアプローチ

Approaching the numerical aperture of water-Immersion lithography at 193nm

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資料名：
巻： 5377 号： Pt.1 ページ： 273-284 発行年： 2004年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：文献レビュー発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Rochester Institute of Technol...

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固体デバイス製造技術一般

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