KURAYAMA F. について
Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN について
SUZUKI N. について
Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN について
Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN について
FURUSAWA T. について
Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN について
ISAHARA H. について
Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN について
KIKUCHI Y. について
Utsunomiya Univ., Utsunomiya, JPN について
FUKUSHIMA S. について
National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN について
TAKANO M. について
Panasonic Electronic Devices Co., Ltd., Kadoma, JPN について
IWASE E. について
Asahi Kasei Corp., Fuji, JPN について
INOUE R. について
ULVAC-PHI, Inc, Chigasaki, JPN について
Mitsubishi Materials Co., Saitama, JPN について
ITOH T. について
Mitsubishi Materials Co., Saitama, JPN について
Journal of Surface Analysis について
X線光電子分光法 について
計測 について
照射損傷 について
劣化 について
試料 について
基板 について
金 について
X線 について
放射線量 について
係数 について
標準化 について
共同比較試験 について
XPS法 について
試料劣化 について
相対損傷係数 について
定量化 について
ラウンドロビン試験 について
電子分光スペクトル について
XPS について
試料 について
損傷 について
定量化 について
標準化 について
ラウンドロビン試験 について