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J-GLOBAL ID：200902250007427431   整理番号：07A1193240

半導体露光装置におけるレンズ調整(群回し調整の最適化)

Lens System Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment (Optimization for Lens Groups Rotation)

著者 (4件)： 品野勇治 (東京農工大 大学院共生科学技術研究部) ,  深川容三 (キヤノン) ,  高野義巳 (キヤノン) ,  吉原俊幸 (キヤノン)
資料名： 日本機械学会論文集 C編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series C)
巻： 73  号： 735  ページ： 2982-2987  発行年： 2007年11月25日 
JST資料番号： F0045B  ISSN： 0387-5024  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体露光装置の投影レンズは複数の群レンズで構成される。そし...

シソーラス用語： *半導体 ,...

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分類 (1件)： 写真機とその付属品  (QF05030V)

引用文献 (6件)：

• OKAZAKI, S. Semiconductor Lithography Technology for Beginners. 2003, 43-69
• FUKAGAWA, Y. Optimum Adjustment for Distortion in Semiconductor Lithography Equipment. Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. 2006, 72, 722, 308-312
• YOSHIHARA, T. Realization of Very Small Aberration Projection Lenses. Optical Microlithography. 2000, XIII, 559-566
• TAKAHASHI, T. From Abberation Coefficient to Automatic Design. 1994, 208-209
• JOHNSON, E. L. Progress in Linear Programming-Based Algorithms for Integer Programming : An Exposition. INFORMS Journal on Computing. 2000, 12, 1, 2-23

タイトルに関連する用語 (4件)： 露光装置 ,  レンズ ,  群 ,  最適化