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J-GLOBAL ID：200902250723768215   整理番号：04A0447926

アクリル酸塩系ネガティブ形フォトレジストの光学特性とその光導波路作製への応用

Optical Properties of Acrylate-Based Negative-Type Photoresist and Its Application to Optical Waveguide Fabrication

著者 (3件)： GUSTAFIK P ,  SUGIHARA O ,  OKAMOTO N
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43  号： 4B  ページ： 2011-2014  発行年： 2004年04月30日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 主成分が三アクリル酸ペンタエリスリトール,n-メチルジエタノ...

シソーラス用語： *アクリル樹脂 ,...

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分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

物質索引 (3件)： ペンタエリスリトール ,  N-メチルジエタノールアミン ,  エオシン

引用文献 (4件)：

• 1) M. Kagami, K. Hasegawa and H. Ito: Appl. Opt. 36 (1997) 7700.
• 2) R. Bachelot, C. Ecoffet, D. Deloeil, P. Royer and D. J. Lougnot: Appl. Opt. 40 (2001) 5860.
• 3) P. Gustafik, O. Sugihara, H. Fujimura and N. Okamoto: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) 2541.
• 4) S. J. Frisken: Opt. Lett. 18 (1993) 1035.

タイトルに関連する用語 (6件)： アクリル酸塩 ,  フォトレジスト ,  光学特性 ,  光導波路 ,  作製 ,  応用