高純度電子的特殊ガスにおける痕跡量水分の測定技術

FUNKE H H; GRISSOM B L; MCGREW C E; RAYNOR M W

文献

J-GLOBAL ID：200902250837479710 整理番号：03A0663139

高純度電子的特殊ガスにおける痕跡量水分の測定技術

Techniques for the measurement of trace moisture in high-purity electronic specialty gases

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=03A0663139&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0663139&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0517A") }}

著者 (4件)： , , ,
資料名：
巻： 74 号： 9 ページ： 3909-3933 発行年： 2003年09月
JST資料番号： D0517A ISSN： 0034-6748 CODEN： RSINAK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

プロセスガスへの水蒸気混入の制御は半導体素子の製造にとって重...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=03A0663139&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0517A") }}

分光分析 , 質量分析 , その他の物理分析 , 固体デバイス製造技術一般

, ,

前のページに戻る