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J-GLOBAL ID：200902250928639710   整理番号：06A0104596

未来を拓く先端技術 電子ビームリソグラフィを用いた3次元ナノ加工

Advanced Technology Opening a Future Three-Dimensional Nanomanufacturing Using Electron Beam Lithography

著者 (2件)： 山崎謙治 (NTT 物性科学基礎研) ,  生津英夫 (NTT 物性科学基礎研)
資料名： NTT技術ジャーナル
巻： 18  号： 2  ページ： 94-97  発行年： 2006年02月01日 
JST資料番号： F0050B  ISSN： 0915-2318  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノテクノロジは21世紀の産業の重要な糧として注目されており...

シソーラス用語： *ナノメータ加工 ,...
準シソーラス用語： PMMA

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 未来 ,  先端技術 ,  電子ビームリソグラフィ ,  3次元 ,  ナノ加工