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J-GLOBAL ID：200902251852622584   整理番号：07A1213878

高分子埋め込み型シリカを用いた高安定性コートキャピラリーの開発とCE-MSへの展開

Polymer Entrapment in Silica Layer for Preparing Highly Stable Capillary Coatings for CE and CE-MS

著者 (5件)： MONTON Maria Rowena N. (Keio Univ.) ,  TOMITA Masaru (Keio Univ.) ,  SOGA Tomoyoshi (Keio Univ.) ,  ISHIHAMA Yasushi (Keio Univ.) ,  ISHIHAMA Yasushi (JST-PRESTO)
資料名： キャピラリー電気泳動シンポジウム講演要旨集  (キャピラリー電気泳動シンポジウムプログラム・講演要旨集)
巻： 27th  ページ： 87-88  発行年： 2007年11月14日 
JST資料番号： L2262A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *キャピラリー電気泳動 ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (2件)： 有機化合物のクロマトグラフィー,電気泳動分析  (CC04034H) ,  蛋白質・ペプチド・アミノ酸の代謝と栄養  (EJ02032I)

物質索引 (1件)： ホルムアミド

タイトルに関連する用語 (9件)： 高分子 ,  埋め込み ,  シリカ ,  安定性 ,  コート ,  キャピラリー ,  開発 ,  Ce ,  展開