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J-GLOBAL ID：200902252634153285   整理番号：09A0862956

硬X線光電子分光による有機分子表面修飾Siナノ粒子の電子状態の研究

著者 (8件)： 今村真幸 (神戸大 工) ,  中村純 (神戸大 工) ,  藤正修司 (神戸大 工) ,  保田英洋 (神戸大 工) ,  上田茂典 (物質・材料研究機構) ,  山下良之 (物質・材料研究機構) ,  吉川英樹 (物質・材料研究機構) ,  小林啓介 (物質・材料研究機構)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 64  号： 2 第4分冊  ページ： 635  発行年： 2009年08月18日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 硬X線 ,  X線光電子分光法 ,  *表面改質 ,  ナノ粒子 ,  *電子状態 ,  発光スペクトル ,  シンクロトロン放射 ,  *ケイ素
準シソーラス用語： 表面修飾

分類 (1件)： 電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X)

タイトルに関連する用語 (7件)： 硬X線光電子分光 ,  有機分子 ,  表面修飾 ,  Si ,  ナノ粒子 ,  電子状態 ,  研究