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J-GLOBAL ID：200902253610552525   整理番号：09A0818001

アミノプロピルシリカゲルビーズに結合した光解離性保護基

Photolabile Protecting Group Bonded to Aminopropyl Silica-Gel Beads

著者 (6件)： MATSUMOTO Jin (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Univ. of Miyazaki) ,  SENDA Yoshiya (Asahi Organic Chemicals Co., Ltd.) ,  MASUDA Hiroki (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Univ. of Miyazaki) ,  FUCHIKAWA Tomokazu (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Univ. of Miyazaki) ,  SHIRAGAMI Tsutomu (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Univ. of Miyazaki) ,  YASUDA Masahide (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Univ. of Miyazaki)
資料名： Bulletin of the Chemical Society of Japan  (Bulletin of the Chemical Society of Japan)
巻： 82  号： 8  ページ： 997-999 (J-STAGE)  発行年： 2009年 
JST資料番号： G0450A  ISSN： 0009-2673  CODEN： BCSJA8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光解離性保護基として働く4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジルオキシカルボニル基が共有結合により3-アミノプロピルシリカゲル上に46%収率で結合した。UV照射下に脱保護を行った。生成したアミノ基を,4-(10,15,20-トリフェニルポルフィリニル)フェニルフルオロホアを用い,共焦点レーザ走査顕微鏡を使って分析した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *光解離 ,  *基 ,  フェノールエーテル ,  芳香族ニトロ化合物 ,  シリカゲル ,  共有結合 ,  *紫外線照射 ,  *脱保護基 ,  *アミノ基 ,  窒素複素環化合物 ,  発色団 ,  共焦点レーザ顕微鏡 ,  走査光学顕微鏡 ,  赤外スペクトル ,  陽子磁気共鳴 ,  炭素13NMR ,  赤外吸収スペクトル ,  紫外可視吸収スペクトル ,  脂肪族アミン ,  粒状材 ,  ジカルボン酸 ,  酸イミド ,  脂肪族カルボン酸 ,  芳香族カルボン酸 ,  表面改質
準シソーラス用語： *保護基 ,  フルオロホア ,  共焦点レーザ走査顕微鏡 ,  FTIRスペクトル ,  ビーズ

分類 (3件)： 非金属化合物  (CD01070R) ,  脂肪族アミン・イミン・第四アンモニウム・インモニウム  (CF03070L) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A)

物質索引 (5件)： 3-アミノプロパン酸 ,  4-(5,10,15-トリフェニル-21H,23H-ポルフィリン-20-イル)安息香酸2,5-ジオキソ-1-ピロリジニル ,  3-[[[(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]アミノ]プロパン酸2,5-ジオキソ-1-ピロリジニル ,  N-プロピル-3-[[[(4,5-ジメトキシ-2-ニトロベンジル)オキシ]カルボニル]アミノ]プロパンアミド ,  デカン酸2,5-ジオキソ-1-ピロリジニル

引用文献 (10件)：

• 1) C. G. Bochet, J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1 2002, 125.
• 2) M. S. Congreve, S. V. Ley, J. J. Scicinski, Chem.—Eur. J. 2002, 8, 1768.
• 3) G. H. McGall, A. D. Barone, M. Diggelmann, S. P. A. Fodor, E. Gentalen, N. Ngo, J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 5081;
•  D.-S. Shin, K.-N. Lee, K.-H. Jang, J.-K. Kim, W.-J. Chung, Y.-K. Kim, Y.-S. Lee, Biosens. Bioelectron. 2003, 19, 485.
• 4) K. Yamaguchi, T. Kitabatake, M. Izawa, T. Fujiwara, H. Nishimura, T. Futami, Chem. Lett. 2000, 228.

タイトルに関連する用語 (2件)： 光解離 ,  保護基