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J-GLOBAL ID：200902254037310135   整理番号：05A0581510

パルスレーザ堆積を用いた高保磁力Sm-Co薄膜のエピタキシャル成長

Epitaxial growth of highly coercive Sm-Co thin films using pulsed laser deposition

著者 (8件)： SINGH A. (IFW Dresden, Dresden, DEU) ,  TAMM R. (Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU) ,  NEU V. (IFW Dresden, Dresden, DEU) ,  FAEHLER S. (IFW Dresden, Dresden, DEU) ,  OERTEL C.-G. (Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU) ,  SKROTZKI W. (Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU) ,  SCHULTZ L. (IFW Dresden, Dresden, DEU) ,  HOLZAPFEL B. (IFW Dresden, Dresden, DEU)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 97  号： 9  ページ： 093902.1-093902.5  発行年： 2005年05月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一軸磁気結晶異方性を有する硬磁性材料は,容易軸が試料全体にわ...

シソーラス用語： レーザ蒸着 ,...

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分類 (2件)： 金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルスレーザ堆積 ,  高保磁力 ,  Sm ,  CO ,  薄膜 ,  エピタキシャル成長