文献

J-GLOBAL ID：200902256006077958   整理番号：09A0733542

C₂H₂/O₂燃焼火炎で生成したダイヤモンド薄膜の電気特性に及ぼす合成条件の影響

Effect of Synthesis Condition on Electrical Characteristic of Diamond Film Produced by C₂H₂/O₂ Combustion Flame

著者 (3件)： OKUMURA Yukihiko (Maizuru National Coll. of Technol., Dept. of Control Engineering) ,  KANAYAMA Kouichi (Maizuru National Coll. of Technol., Dept. of Electrical and Computer Engineering) ,  TERAKI Yosuke (Maizuru National Coll. of Technol., Dept. of Control Engineering)
資料名： Journal of Thermal Science and Technology (Web)  (Journal of Thermal Science and Technology (Web))
巻： 4  号： 1  ページ： 178-189 (J-STAGE)  発行年： 2009年 
JST資料番号： U0023A  ISSN： 1880-5566  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では電子機器用途での利用に関して,燃焼火炎で合成したダイヤモンド薄膜の電気特性について解明し,これにより適切なダイヤモンド薄膜の合成をした。薄膜に非晶質炭素を含む場合,電気抵抗率(体積抵抗率)は低下する,すなわち,ダイヤモンド薄膜の電気特性は悪化することを示した。ダイヤモンド薄膜の非晶質炭素含有量を減らすため,著者らは最適当量比と最適基板温度の二つのパラメータを検出する手法を用いた。これらの手法により非晶質炭素の量を効率的に減少でき,これにより薄膜の電気特性改良に関して,最適合成に影響するファクタを系統的に変えられることを示した。著者らは室温で優れた電気特性と高い電気抵抗率(10¹⁰~10¹³Ωm)を有する高品質ダイヤモンド薄膜の製造法の開発に成功した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *燃焼合成 ,  ダイヤモンド ,  *薄膜 ,  *電気特性 ,  酸素 ,  火炎 ,  炭素材 ,  電気抵抗率 ,  電子装置 ,  アルキン
準シソーラス用語： *ダイヤモンド膜 ,  *非晶質炭素 ,  薄膜形成

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

物質索引 (1件)： アセチレン

引用文献 (22件)：

• (1) Diamond: Crown Pub, Inc (1980), p.278.
• (2) Tojo, T., Technical Strategy of Mechanical Engineering for Semiconductor Field in the 21st Century, Journal of the Japan Society of Mechanical Engineers, Vol.104, No.986, (2001), pp.12-16.
• (3) Denisenko A., Kohn, E., Diamond power devices. Concepts and limits, Diamond & Related Materials, 14, (2005), pp.491-498.
• (4) Ravi, K. V., Materials Science Engineering, B19 (1993), p. 203.
• (5) Okumura, Y., Kanayama, K., Tabaru M., Kawabata, S., Electric characteristics of diamond film synthesized by combustion flame, Transaction Japan Society of Mechanical Engineers, Series B, Vol. 72, No.716, (2006), pp.1073-1080.

タイトルに関連する用語 (4件)： O2 ,  燃焼火炎 ,  ダイヤモンド薄膜 ,  電気特性