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J-GLOBAL ID:200902256970440549   整理番号:06A0183634

表面波マイクロ波プラズマ化学蒸着で成長した窒素化炭素薄膜の光電特性に及ぼすメタンガス流速の影響

Effects of methane gas flow rate on the optoelectrical properties of nitrogenated carbon thin films grown by surface wave microwave plasma chemical vapor deposition
著者 (6件):
資料名:
巻: 15  号: 2-3  ページ: 371-377  発行年: 2006年02月 
JST資料番号: W0498A  ISSN: 0925-9635  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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分類 (2件):
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炭素とその化合物  ,  その他の無機化合物の薄膜 
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