文献

J-GLOBAL ID：200902256988902485   整理番号：05A0764078

パルスレーザ堆積ITO薄膜の性質に及ぼすレーザ照射エネルギー密度の効果

Effects of laser irradiation energy density on the properties of pulsed laser deposited ITO thin films

著者 (6件)： ADURODIJA F.O. (Mount Allison Univ., N.B., CAN) ,  BRUENING R. (Mount Allison Univ., N.B., CAN) ,  ASIA I.O. (Ambrose Alli Univ., Ekpoma, NGA) ,  IZUMI H. (Hyogo Prefectural Inst. of Industrial Res., Kobe, JPN) ,  ISHIHARA T. (Hyogo Prefectural Inst. of Industrial Res., Kobe, JPN) ,  YOSHIOKA H. (Hyogo Prefectural Inst. of Industrial Res., Kobe, JPN)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： A81  号： 5  ページ： 953-957  発行年： 2005年10月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ堆積と基板のレーザ照射を同時に行うことにより酸化...

シソーラス用語： *酸化インジウム ,...
準シソーラス用語： ITO【固溶体】

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0764078&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=D0256C") }}

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザ堆積 ,  ITO薄膜 ,  性質 ,  レーザ照射 ,  エネルギー密度