スパッタTaN膜における自然酸化物成長の抑制とそのCuの無電解メッキへの応用

WANG Z; YAEGASHI O; SAKAUE H; TAKAHAGI T; SHINGUBARA S

文献

J-GLOBAL ID：200902257726882250 整理番号：03A0698017

スパッタTaN膜における自然酸化物成長の抑制とそのCuの無電解メッキへの応用

Suppression of native oxide growth in sputtered TaN films and its application to Cu electroless plating

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巻： 94 号： 7 ページ： 4697-4701 発行年： 2003年10月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

N/Ta原子比の異なるTaN膜を反応性スパッタリングで作製し...

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その他の無機化合物の薄膜 , 固体デバイス製造技術一般

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