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J-GLOBAL ID：200902257851841256   整理番号：08A0696727

高屈折率及び高アッベ数の含硫ポリ(メタ)アクリラート

Sulfur-Containing Poly(meth)acrylates with High Refractive Indices and High Abbe’s Numbers

著者 (3件)： OKUTSU Rie (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  ANDO Shinji (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  UEDA Mitsuru (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 20  号： 12  ページ： 4017-4023  発行年： 2008年06月24日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 環状ジチオカルボナート,ノルボルネン及びメタクリラートまたはアクリラートからなる以下の4種類のモノマを合成した: 2-{exo-3,5-ジチアトリシクロ[5.5.1.0^2,6]デクチル-4-オン-8-スルファニル}エチルアクリラート(1),2-{exo-3,5-ジチアトリシクロ[5.5.1.0^2,6]デクチル-4-オン-8-スルファニル}エチルメタクリラート(2), 2-[2-{exo-3,5-ジチアトリシクロ[5.5.1.0^2,6]デクチル-4-オン-8-スルファニル}エチルオキシカバモイル]エチルメタクリラート(3)及び2-{exo-3,5-ジチアトリシクロ[5.5.1.0^2,6]デクチル-4-オン-8-スルファニル}エチルチオメタクリラート(4)。各モノマのラジカル重合により,対応するポリアクリラートまたはポリメタクリラートを合成した。これらのポリマは空気中でも窒素中でもかなり高温まで安定であった(290°Cで5%の重量損失)。ガラス転移温度は44~109°Cであった。スピンキャスト法により作製したこれらポリマの薄膜は400~800nmの可視光範囲で良好な透明性を示し,大きな屈折率1.592~1.640(589nm)と大きなアッベ数40.5~44.5を有することが分かった。レンズなど光学材料としての応用が期待される。

シソーラス用語： *屈折率 ,  *光学材料 ,  *光分散 ,  ガラス転移 ,  ラジカル重合 ,  *高分子
準シソーラス用語： *アッベ数

分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  単独重合  (CG04020S) ,  光の屈折,反射,分散,偏向,吸収,透過  (BD03020B)

物質索引 (4件)： アクリル酸2-[[4-オキソ-3,5-ジチアトリシクロ[5.2.1.0^2,6]デカン-9-イル]チオ]エチル ,  メタクリル酸2-[[4-オキソ-3,5-ジチアトリシクロ[5.2.1.0^2,6]デカン-9-イル]チオ]エチル ,  メタクリル酸2-[[[[2-[[4-オキソ-3,5-ジチアトリシクロ[5.2.1.0^2,6]デカン-9-イル]チオ]エチル]オキシ]カルボニル]アミノ]エチル ,  チオメタクリル酸S-[2-[[4-オキソ-3,5-ジチアトリシクロ[5.2.1.0^2,6]デカン-9-イル]チオ]エチル]

タイトルに関連する用語 (3件)： 高屈折率 ,  アッベ数 ,  アクリラート