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J-GLOBAL ID：200902258137863730   整理番号：06A0786464

低圧酸素プラズマ中の高周波バイアス電極におけるSi(001)のイオン衝撃誘起改質の動力学 その場分光エリプソメトリーとモンテカルロ研究

Dynamics of ion bombardment-induced modifications of Si(001) at the radio-frequency-biased electrode in low-pressure oxygen plasmas: In situ spectroscopic ellipsometry and Monte Carlo study

著者 (4件)： AMASSIAN A. (Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de ...) ,  SVEC M. (Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de ...) ,  DESJARDINS P. (Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de ...) ,  MARTINU L. (Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de ...)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 100  号： 6  ページ： 063526-063526-16  発行年： 2006年09月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高品質光学被覆の製作に適したイオン衝撃条件下の成長表面におけ...

シソーラス用語： 低圧 ,...

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分類 (1件)： イオンとの相互作用  (BK16070Z)

タイトルに関連する用語 (11件)： 低圧 ,  酸素プラズマ ,  高周波バイアス ,  Si ,  イオン衝撃 ,  誘起 ,  改質 ,  動力学 ,  分光エリプソメトリー ,  モンテカルロ ,  研究