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J-GLOBAL ID：200902258604069385   整理番号：06A0288948

PtO_x熱分解リソグラフィーを使用する超分解能近傍場構造リード・オンリー・メモリー・マスターディスクの高速製造

High-Speed Fabrication of Super-Resolution Near-Field Structure Read-Only Memory Master Disc using PtO_x Thermal Decomposition Lithography

著者 (6件)： KURIHARA Kazuma (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  YAMAKAWA Yuzo (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  SHIMA Takayuki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  NAKANO Takashi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  KUWAHARA Masashi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN) ,  TOMINAGA Junji (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 45  号： 2B  ページ： 1379-1382  発行年： 2006年02月28日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高処理能力マスターディスク製造のための,白金酸化物(PtO<...

シソーラス用語： *リソグラフィー ,...
準シソーラス用語： *近傍場構造 ,...

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分類 (1件)： 記憶装置  (JC04060F)

引用文献 (13件)：

• J. Tominaga, T. Nakano and N. Atoda: Appl. Phys. Lett.73(1998)2078.
• I. Ichimura, K. Kishima, K. Osato, K. Yamamoto, Y. Kuroda and K. Saito: Jpn. J. Appl. Phys.39(2000)962.
• D. Day and M. Gu: Appl. Phys. Lett.80(2002)2404.
• M. Irie, S. Kobatake and M. Horichi: Science 291(2001)1769.
• T. Kikukawa, T. Nakano, T. Shima and J. Tominaga: Appl. Phys. Lett.81(2002)4697.

タイトルに関連する用語 (5件)： 熱分解 ,  リソグラフィー ,  分解能 ,  近傍場 ,  リード