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J-GLOBAL ID：200902258949755176   整理番号：05A0404713

蛇行線構造層状FeSiB/Cu/FeSiB薄膜における応力-インピーダンス効果

Stress-impedance effects in layered FeSiB/Cu/FeSiB films with a meander line structure

著者 (6件)： ZHOU Yong (Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN) ,  MAO Xin-Hui (Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN) ,  CHEN Ji-An (Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN) ,  WEN DING (Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN) ,  GAO Xiao-Yu (Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN) ,  ZHOU Zhi-Min (Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 292  ページ： 255-259  発行年： 2005年04月 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： RFマグネトロンスパッタ法によりガラス基板上に層状FeSiB...

シソーラス用語： 鉄合金 ,...

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分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (6件)： 蛇行線 ,  層状 ,  Cu ,  薄膜 ,  応力 ,  インピーダンス