文献

J-GLOBAL ID：200902259066270438   整理番号：04A0198222

分子流領域のPVD過程で調製したB-Sb薄膜の性質

The properties of B-Sb thin films prepared by molecular flow region PVD process

著者 (7件)： KUMASHIRO Y (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  NAKAMURA K (Nihon Univ., Tokyo, JPN) ,  SATO K (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  OHTSUKA M (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  OHISHI Y (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  NAKANO M (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  DOI Y (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
資料名： Journal of Solid State Chemistry  (Journal of Solid State Chemistry)
巻： 177  号： 2  ページ： 533-536  発行年： 2004年02月 
JST資料番号： H0505A  ISSN： 0022-4596  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 350°CのSi(1900Å)/SiO_x...

シソーラス用語： *ホウ素化合物 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=04A0198222&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0505A") }}

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O) ,  物理化学一般その他  (CB01030T)

タイトルに関連する用語 (7件)： 分子流 ,  PVD ,  過程 ,  調製 ,  Sb ,  薄膜 ,  性質