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J-GLOBAL ID：200902259254378033   整理番号：09A1270117

SbドープSnO₂およびTaドープSnO₂薄膜の熱拡散率測定

著者 (7件)： 山田沙織 (青山学院大 理工) ,  八木貴志 (産業技術総合研) ,  竹歳尚之 (産業技術総合研) ,  馬場哲也 (産業技術総合研) ,  岡伸人 (青山学院大 理工) ,  佐藤泰史 (青山学院大 理工) ,  重里有三 (青山学院大 理工)
資料名： Thermophysical Properties  (Thermophysical Properties)
巻： 30th  ページ： 25-27  発行年： 2009年10月27日 
JST資料番号： X0031A  ISSN： 0911-1743  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ドーピング ,  *酸化スズ ,  *温度伝導率 ,  アンチモン ,  タンタル ,  *透明導電膜 ,  薄膜成長 ,  構造解析 ,  分析 ,  光透過 ,  光反射 ,  熱ルミネセンス ,  電気伝導率
準シソーラス用語： 組成分析

分類 (1件)： 比熱・熱伝導一般  (BL05021E)

引用文献 (5件)：

• The 166^<th> Committee on Photonic and Electronic Oxide JSPS. Technology of transparent conductive oxide thin-films. 2006, 113
• ASHIDA, T. J. Appl. Phys. 2009, 105, 073709
• YAGI, T. Proc. of 29^<th> Jpn. Symp. on Thermophys. Prop., 2008. 2008, B306
• BABA, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2009, 48
• KITTEL, C. Introduction to Solid State Physics. 1998, 185-186

タイトルに関連する用語 (5件)： Sb ,  ドープ ,  Ta ,  薄膜 ,  熱拡散率