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J-GLOBAL ID：200902261059036947   整理番号：03A0413785

酸素プラズマエッチングとエラストママスクを用いた化学吸着した細胞接着忌避膜のマイクロパターン

Micropatterns of Chemisorbed Cell Adhesion-Repellent Films Using Oxygen Plasma Etching and Elastomeric Masks

著者 (8件)： BARBER T (Univ. California at Berkeley, California) ,  WICKES B T (Univ. Washington, Washington) ,  HIRDES D (Univ. Washington, Washington) ,  GRIN B (Univ. Washington, Washington) ,  CASTNER D G (Univ. Washington, Washington) ,  HEALY K E (Univ. California at Berkeley, California) ,  FOLCH A (Univ. Washington, Washington) ,  TOUROVSKAIA A (Univ. Washington, Washington)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 19  号： 11  ページ： 4754-4764  発行年： 2003年05月27日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸素プラズマを用いた細胞のマイクロパターン形成法を開発した。...

シソーラス用語： *細胞接着 ,...
準シソーラス用語： マイクロパターン形成

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分類 (4件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  細胞生理一般  (EF02010S) ,  試料技術  (BA02070O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸素プラズマ ,  エッチング ,  化学吸着 ,  細胞接着 ,  マイクロパターン