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J-GLOBAL ID:200902262177743069   整理番号:08A1236991

テトラメチルシラン-酸素のガス混合物を用いるプラズマ増強気相化学蒸着による屈曲性基板上の表面改質層

Surface modification layer deposition on flexible substrates by plasma-enhanced chemical vapour deposition using tetramethylsilane-oxygen gas mixture
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巻: 41  号: 22  ページ: 225305,1-8  発行年: 2008年11月21日 
JST資料番号: B0092B  ISSN: 0022-3727  CODEN: JPAPBE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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種々のプラスチック基板上にPECVDにより,テトラメチルシラン(TMS)-酸素のガス混合物から機能性ケイ素を含む薄膜を成長させた。基板として,PMMA,ポリカーボネートとPETを用いた。種々の流速比でPECVDにより成長させた膜の接触角は100度を超えていて,表面粗さが大きいと疎水性が増大した。またプラスチック基板の柔軟性は,無機Si-O-Siネットワークにより硬くなった。ポリカーボネート上の膜は最も高い表面硬度1.52GPaを示した。酸素量が多いと放電中の酸素衝撃により均一性と硬さが低下した。また炭素が多い膜の屈折率は1.64で高かった。
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その他の無機化合物の薄膜 
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