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J-GLOBAL ID：200902262208841080   整理番号：05A0543052

トポ-トモグラフィック手法と結合したシンクロトロン白色X線トポグラフィーにより決定したシリコン中転位の三次元構造

Three-dimensional structure of dislocations in silicon determined by synchrotron white x-ray topography combined with a topo-tomographic technique

著者 (6件)： KAWADO S (Rigaku Corp., Tokyo, JPN) ,  TAISHI T (Shinshu Univ., Nagano, JPN) ,  IIDA S (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  SUZUKI Y (Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu-shi, JPN) ,  CHIKAURA Y (Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu-shi, JPN) ,  KAJIWARA K (Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Hyogo, JPN)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 38  号： 10A  ページ： A17-A22  発行年： 2005年05月21日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記の性能概要,成長初期段階の結晶に伝播する個々の転位の詳細...

シソーラス用語： *X線パノラマ撮影 ,...
準シソーラス用語： 伝播

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分類 (1件)： 半導体の格子欠陥  (BK12040Q)

タイトルに関連する用語 (8件)： グラフィック ,  手法 ,  シンクロトロン ,  白色 ,  X線トポグラフィー ,  シリコン ,  転位 ,  三次元構造