文献

J-GLOBAL ID：200902262256305999   整理番号：09A0735612

高感光性光塩基発生剤を使用する感光性ポリイミド

Photosensitive Polyimide using a Highly Sensitive Photobase Generator

著者 (3件)： FUKUDA Shunji (Dai Nippon Printing Co., Ltd., Ibaraki, JPN) ,  KATAYAMA Mami (Dai Nippon Printing Co., Ltd., Ibaraki, JPN) ,  SAKAYORI Katsuya (Dai Nippon Printing Co., Ltd., Ibaraki, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 22  号： 3  ページ： 391-392  発行年： 2009年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルカリ現像可能な高感度ネガ型感光性ポリイミド(PSPI)を新たに開発した経過を紹介する。ここでは既存光塩基発生剤(PBG)である2,6-ジメチルピペリジノカルボン酸2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル(DNCDP)に替わるPBG-1を例示した。PBG-1は感光性保護基としてo-ヒドロキシ-trans-ケイ皮酸誘導体を有し,その光異性化と続くラクトン化へと導きアミン塩基を発生させる。ここではPBG-1ならびにその置換誘導体(PBG-2)の合成法を示した。次いでそれらのレジストフィルム(RF)への応用とリソグラフィーへの適用についても検討した。その結果PBG-1あるいはPBG-2を含むPSPIは,高い熱安定性と光増感性とを示した。またこれらを使用することで,12μmハイライト線で明瞭なネガ型高感光性画像を取得できた。このPSPIは厚みのあるフィルムに好適であった。

シソーラス用語： *光塩基発生剤 ,  感光性高分子 ,  *フォトレジスト ,  プラスチックフィルム ,  光異性化 ,  ラクトン化 ,  *ポリイミド ,  リソグラフィー ,  像形成 ,  熱安定性 ,  窒素複素環化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  カルボアミド ,  フェノール類 ,  光増感反応

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  各種写真法  (ZA03040M)

物質索引 (2件)： 2,6-ジメチルピペリジン-1-カルボン酸2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル ,  2-[2-(ピペリジノカルボニル)ビニル]フェノール

引用文献 (3件)：

• K. Fukukawa, Y. Shibasaki, and M. Ueda, Polym. Adv. Technol., 17, 131-136(2006)
• B. Wang, and A. Zheng, Chem. Pharm. Bull., 45, 715-718(1997)
• A. Mochizuki, T. Teranishi, and M. Ueda, Macromolecules, 28, 365-369(1995)

タイトルに関連する用語 (3件)： 感光性 ,  光塩基発生剤 ,  感光性ポリイミド