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J-GLOBAL ID：200902273991451135   整理番号：06A0206711

ポリアミック酸の直接パターニングと光塩基発生剤を用いた低温イミド化

Direct patterning of poly(amic acid) and low-temperature imidization using a photo-base generator

著者 (3件)： UEDA Mitsuru (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  SHIBASAKI Yuji (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  FUKUKAWA Ken-ichi (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名： Polymers for Advanced Technologies  (Polymers for Advanced Technologies)
巻： 17  号： 2  ページ： 131-136  発行年： 2006年02月 
JST資料番号： W0503A  ISSN： 1042-7147  CODEN： PADTE5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリアミック酸と光塩基発生剤によるネガ型光増幅ポリイミド(P...

シソーラス用語： ポリアミド酸 ,...

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分類 (3件)： 重縮合  (CG04050Z) ,  その他の添加剤,配合薬品,副資材  (YH05070B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (5件)： 4,4′-オキシジアニリン ,  イソプロパノール ,  テトラメチルアンモニウムヒドロキシド ,  ビフェニル-3,3′,4,4′-テトラカルボン酸3,4:3′,4′-二無水物 ,  2,6-ジメチルピペリジン-1-カルボン酸2-ニトロ-4,5-ジメトキシベンジル

タイトルに関連する用語 (5件)： ポリアミック酸 ,  パターニング ,  光塩基発生剤 ,  低温 ,  イミド化