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J-GLOBAL ID：200902262337247373   整理番号：08A0206212

シリカ-ベース材料の新規構成単位としての二重-4-環けい酸塩のアルコキシシリル化-誘導体

Alkoxysilylated-Derivatives of Double-Four-Ring Silicate as Novel Building Blocks of Silica-Based Materials

著者 (4件)： HAGIWARA Yoshiaki (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  SHIMOJIMA Atsushi (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  KURODA Kazuyuki (Waseda Univ., Tokyo, JPN) ,  KURODA Kazuyuki (JST-CREST, JPN)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 20  号： 3  ページ： 1147-1153  発行年： 2008年02月12日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： D4Rけい酸塩の新規アルコキシシリル化-誘導体の合成およびシリカ-ベースナノ材料を構築するための構成単位としてのその使用を報告した。ナノ構成単位としてD4Rシロキサンユニットへモノ-,ジ-,およびトリアルコキシシリル基が付着した3種類のオリゴマーシロキサンを用いて,シリカ-ベースナノ材料を形成させた。これらのオリゴマーの加水分解および縮合重合挙動は従来のモノマーあるいはオリゴマーアルコキシシランとは全く異なり,基本的なゾル-ゲル化学への重要な洞察が得られた。また構造-指向剤として両親媒性トリブロックコポリマー界面活性剤(P123)を用いることによってメソ構造シリカ薄膜がオリゴマーから得られ,この様な構成単位法によって分子設計されたネットワークを持つ新規シリカ-ベースナノ材料の生成が導かれた。

シソーラス用語： *二重構造 ,  *環状体 ,  *ケイ酸塩 ,  *シリル化 ,  *誘導体化 ,  化学合成 ,  ナノ構造 ,  モジュール ,  ポリシロキサン ,  オリゴマ ,  加水分解 ,  重縮合 ,  反応性 ,  ゾル-ゲル法 ,  構造形成 ,  両親媒性高分子 ,  高分子界面活性剤 ,  非イオン界面活性剤 ,  構造 ,  薄膜 ,  ネットワーク構造 ,  二酸化ケイ素 ,  *アルコキシ基
準シソーラス用語： *アルコキシル基 ,  シリカ ,  Pluronic ,  メソ構造 ,  構成単位

分類 (5件)： 無機重合体  (YH07140R) ,  脂肪族アルコール・チオールの無機酸エステル  (CF03140N) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  非金属の錯体  (CE01020R) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリカ ,  ベース材料 ,  構成単位 ,  けい酸塩 ,  誘導体