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J-GLOBAL ID：200902263890546466   整理番号：08A0649857

ダイツーデータベース検査ツール(NGR2100)を用いてリソグラフィープロセスウィンドウを拡大するための系統的欠陥評価を実行する新しいロバストなプロセスウィンドウ検証(PWQ)技術

A New Robust Process Window Qualification (PWQ) Technique to Perform Systematic Defect Characterization to Enlarge the Lithographic Process Window, using a Die-to-Database Verification Tool (NGR2100).

著者 (8件)： KITAMURA Tadashi (NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN) ,  HASEBE Toshiaki (NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN) ,  KUBOTA Kazufumi (NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN) ,  SAKAI Futoshi (NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN) ,  NAKAZAWA Shinichi (NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN) ,  HOFFMAN Michael J. (NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN) ,  YAMAMOTO Masahiro (NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN) ,  INOUE Masahiro (Topcon Corp., Tokyo, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 6925  ページ： 692519.1-692519.5  発行年： 2008年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィー及び設計ベースの歩留まり損失の原因となる系統的欠陥を検出するためにダイツーデータベース検査ツール(NGR2100)をすでに開発した。本報では,この検査ツールを用いて系統的欠陥を検出することによってプロセスウィンドウをより正確に定義する,新しいロバストプロセスウィンドウ検証(PWQ)技術を提案した。このダイベースの系統的欠陥検出をEDAフィードバックと手動法を介してOPC補正に直接適用し,機能リソグラフィーウィンドウを拡大した。フラッシュメモリデバイスへの適用結果を示した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  歩留り ,  *欠陥検査 ,  許容範囲 ,  検証 ,  補正 ,  フラッシュメモリ ,  標準 ,  ホットスポット ,  回路設計 ,  フォトマスク
準シソーラス用語： *ダイツーデータベース検査 ,  *プロセスウィンドウ ,  *光近接効果補正 ,  国際半導体技術ロードマップ ,  製造性考慮設計

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (9件)： 検査 ,  ツール ,  拡大 ,  系統 ,  欠陥 ,  評価 ,  ロバスト ,  プロセスウィンドウ ,  検証