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J-GLOBAL ID:200902264172318117   整理番号:04A0068930

ヘリコンスパッタ法により作製したアモルファスSiC薄膜の摩擦・摩耗特性とはく離強度の関係

Relation between Friction and Wear Properties and Delamination Behavior of Amorphous SiC Film Coated by Helicon Sputtering
著者 (4件):
資料名:
巻: 69  号: 688  ページ: 1731-1739  発行年: 2003年12月25日 
JST資料番号: F0227B  ISSN: 0387-5008  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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ヘリコンスパッタ装置により,チタン基材にSiC皮膜を製膜し,...
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