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J-GLOBAL ID：200902264172318117   整理番号：04A0068930

ヘリコンスパッタ法により作製したアモルファスSiC薄膜の摩擦・摩耗特性とはく離強度の関係

Relation between Friction and Wear Properties and Delamination Behavior of Amorphous SiC Film Coated by Helicon Sputtering

著者 (4件)： 加藤昌彦 (広島大 大学院工学研究科) ,  中佐啓治郎 (広島大 大学院工学研究科) ,  YAN X (広島大 大学院) ,  田中和宏 (広島大 大学院)
資料名： 日本機械学会論文集 A編  (Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers. Series A)
巻： 69  号： 688  ページ： 1731-1739  発行年： 2003年12月25日 
JST資料番号： F0227B  ISSN： 0387-5008  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ヘリコンスパッタ装置により,チタン基材にSiC皮膜を製膜し,...

シソーラス用語： ヘリコン ,...

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分類 (1件)： 気相めっき  (WC08022K)

引用文献 (14件)：

• 加藤昌彦. 機論, A. 2001, 67, 658, 1009-1016
• ゲ・ヴェ・サムソノフ. 高融点化合物便覧. 1977
• 森田正. ULVAC TECHNICAL JOURNAL. 1996, 45, 10-14
• 松浦正道. ULVAC TECHNICAL JOURNAL. 1997, 47, 39-46
• KODALI, P. Wear. 1997, 205, 144-152

タイトルに関連する用語 (9件)： ヘリコン ,  スパッタ法 ,  作製 ,  アモルファス ,  SiC ,  薄膜 ,  摩擦 ,  摩耗特性 ,  はく離強度