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J-GLOBAL ID：200902268879251782   整理番号：07A0679663

直線偏光Nd-YAGパルスレーザ照射により製造したシリコンおよびニッケルの周期整列サブミクロンドット

Periodically Aligned Submicron Dots of Silicon and Nickel Fabricated by Irradiation with Linearly Polarized Nd:YAG Pulsed Laser

著者 (2件)： NISHIOKA Kensuke (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN) ,  HORITA Susumu (Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 46  号： 20-24  ページ： L556-L558  発行年： 2007年06月25日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サブミクロンのシリコンドットおよびニッケルドットの周期整列を...

シソーラス用語： YAGレーザ ,...
準シソーラス用語： シリカ ,...

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分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (8件)： 直線偏光 ,  Nd ,  YAG ,  パルスレーザ照射 ,  シリコン ,  ニッケル ,  周期 ,  整列