堀田將

ホリタススム | Horita Susumu

所属機関・部署：
職名：教授
ホームページURL (1件)： http://www.jaist.ac.jp/ms/labs/handoutai/horita-lab/horita.html

研究分野 (2件)：電子デバイス、電子機器 , 電気電子材料工学

研究キーワード (16件)：シリコーンオイル , オゾン , 低温Si酸化膜作製 , スパッタリング , TFT , 薄膜トランジスタ , 結晶化Si薄膜 , 強誘電体薄膜 , 強誘電体メモリ , Si薄膜 , 薄膜作製 , 薄膜結晶成長 , 半導体工学 , 電子デバイス , silicon oxide film , laser anneal

競争的資金等の研究課題 (20件)：

2021 - 2024 200°C以下の熱処理による低温作製したシリカ膜の電気的絶縁性の飛躍的向上
2016 - 2019 セルロースナノペーパー上の結晶化シリコン薄膜による薄膜トランジスタの作製
2009 - 2011 種結晶層を用いた低温結晶化シリコン薄膜の粒径制御
2003 - 2004 中間電極を用いた新しい動作原理による強誘電体メモリの開発
2004 - シリコーンオイルとオゾンガスを用いた低温シリコン酸化膜の形成

全件表示

論文 (109件)：

Susumu Horita, Di Pu. Study on residual OH content in low-temperature Si oxide films after in-situ post-deposition-heating (PDH). Japanese Journal of Applied Physics. 2023
Jyotish Patidar, Susumu Horita. Deposition Condition at Low Temperature for Crystallization Enhancement of YSZ Films on Glass Substrates by Reactive Sputtering. Proceedings of AM-FPD 2020 - 27th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices: TFT Technologies and FPD Materials. 2020. 89-92
Horita Susumu. Highly effective removal of OH bonds in low-temperature silicon oxide films by annealing with ammonia gas at a low temperature of 175 degrees C. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2019. 58. 3
Sanjida Ferdous, Abu Bakar, Md Ismail, Susumu Horita. Investigation on Silicon Oxide Films Grown by Using Silicone Oil and Ozone at Low-Temperature. International Conference on Computer, Communication, Chemical, Material and Electronic Engineering, IC4ME2 2018. 2018
Susumu Horita, Puneet Jain. Dependences of deposition rate and OH content on concentration of added trichloroethylene in low-temperature silicon oxide films deposited using silicone oil and ozone gas. Japanese Journal of Applied Physics. 2018. 57. 3

MISC (5件)：

岡本庄司, 渡辺隆之, 森岡仁, 横山信太郎, 秋山賢輔, 村中一樹, 堀田將, 舟窪浩. Si基板上でのエピタキシャル強誘電体薄膜の配向制御法の確立. 第64回応用物理学会学術講演会. 2003. 2a-V-8. 505
S Horita, M Watanabe, S Umemoto, A Masuda. Material properties of heteroepitaxial yttria-stabilized zirconia films with controlled yttria contents on Si prepared by reactive sputtering. VACUUM. 1998. 51. 4. 609-613
S Horita, M Watanabe, A Masuda. Structural and electrical properties of yttria-stabilized zirconia films with controlled Y content heteroepitaxially grown on Si by reactive sputtering. MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY. 1998. 54. 1-2. 79-83
S Horita, T Naruse, M Watanabe, A Masuda, T Kawada, Y Abe. Interface control of Pb(ZrxTi1-x)O-3 thin film on silicon substrate with heteroepitaxial YSZ buffer layer. APPLIED SURFACE SCIENCE. 1997. 117. 429-433
渡部幹雄, 成瀬哲哉, 増田淳, 堀田将. 反応性スパッタ法によるSi基板上へのY組成制御YSZ薄膜のヘテロエピタキシャル成長. 電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料. 1996. 96. 349. 19-25

特許 (3件)：

非破壊読出し可能な強誘電体メモリデバイス
導電体薄膜の堆積法
半導体装置の製造及び被処理物処理方法

書籍 (3件)：

薄膜作製応用ハンドブック
エヌ・ティー・エス 2020 ISBN:9784860436315
薄膜ハンドブック(第2版)、4・3 誘電特性4・3・1 誘電体薄膜の性質(2)強誘電性
オーム社 2008
薄膜トランジスタ、1章(分担)
コロナ社 2008

講演・口頭発表等 (121件)：

Effect of ammonia gas in annealing process on reduction of residual OH-bonds and improvement of electrical properties of low-temperature silicon oxide films
(The 4th International Workshop on Advanced Materials and Devices IWAMD 2023, EMD-I7 2023)
堆積後その場熱処理による低温酸化Si膜中残留OH基量の堆積温度依存性
(2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, 15p-PA04-2,12-063 2023)
Quantitative Evaluation of Low-temperature Si Oxide Films by Derivative FT-IR Spectra
(The 29th International Display Workshops(IDW' 22), FMCp3-5L, pp. 361-364. 2022)
FT-IR微分スペクトルによる低温酸化Si膜中の残留OH基量の評価
(第83回応用物理学会秋季学術講演会、23a-P04-2、12-292ページ 2022)
反応性スパッタ法により低温堆積したYSZ薄膜の結晶性への基板温度の影響
(第83回応用物理学会秋季学術講演会、21p-P16-11、05-187ページ 2022)

Works (2件)：

研究成果活用プラザ石川実用化検討に係る試験研究事業(JST)
2003 -
研究成果活用プラザ石川実用化検討に係る試験研究事業(JST)
2002 -

学位 (1件)：

工学博士 (東京工業大学)

経歴 (2件)：

1988 - Recturer (1988), Associate Professor (1992) at Kanazawa University
1987 - 金沢大学工学部助手 (1987),同講師 (1988),同助教授 (1992)

委員歴 (6件)：

電子情報通信学会一般会員
日本表面学会一般会員
応用物理学会一般会員
Institute of Electronics Information and Communication Engineers in Japan Member
Surface Science Society of Japan Member

全件表示

受賞 (5件)：

2017/04 - 応用物理学会第15回APEX/JJAP編集貢献賞
2015/11 - 独立行政法人日本学術振興会科研費審査委員賞
2013/12 - 第20回国際表示学会(IDW'13) アウトスタンディングポスター論文賞
2012/04 - 応用物理学会第10回APEX/JJAP編集貢献賞
2003/12/03 - 第10回国際ディスプレイワークショップポスター賞

所属学会 (8件)：

MRS (Materials Research Society) , 電子情報通信学会 , 日本表面学会 , 応用物理学会 , MRS (Materials Research Society) in U.S.A. , Institute of Electronics Information and Communication Engineers in Japan , Surface Science Society of Japan , Japan Society of Applied Physics

※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る

堀田 將

堀田將