研究者
J-GLOBAL ID:200901077995207576   更新日: 2021年09月06日

堀田 將

ホリタ ススム | Horita Susumu
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.jaist.ac.jp/ms/labs/handoutai/horita-lab/horita.html
研究分野 (2件): 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (16件): シリコーンオイル ,  オゾン ,  低温Si酸化膜作製 ,  スパッタリング ,  TFT ,  薄膜トランジスタ ,  結晶化Si薄膜 ,  強誘電体薄膜 ,  強誘電体メモリ ,  Si薄膜 ,  薄膜作製 ,  薄膜結晶成長 ,  半導体工学 ,  電子デバイス ,  silicon oxide film ,  laser anneal
競争的資金等の研究課題 (8件):
  • 2004 - シリコーンオイルとオゾンガスを用いた低温シリコン酸化膜の形成
  • 2003 - Formation of Si oxide film by using ozone and silicone oil at lower temperature less than 200°C
  • 2000 - Si基板上への不揮発・非破壊読出し強誘電体メモリの作製
  • 1999 - Fabrication of low temperature poly-crystal Si film with controlled grain boundary location by a pulse laser beam on a glass substrate
  • 1998 - Low temperature crystallization of a depositing Si film on a glass substrate covered with a poly-YSZ seed layer
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論文 (105件):
MISC (2件):
特許 (3件):
  • 非破壊読出し可能な強誘電体メモリデバイス
  • 導電体薄膜の堆積法
  • 半導体装置の製造及び被処理物処理方法
書籍 (3件):
  • 薄膜作製応用ハンドブック
    エヌ・ティー・エス 2020 ISBN:9784860436315
  • 薄膜ハンドブック(第2版)、4・3 誘電特性4・3・1 誘電体薄膜の性質(2)強誘電性
    オーム社 2008
  • 薄膜トランジスタ 、1章(分担)
    コロナ社 2008
講演・口頭発表等 (114件):
  • Study on Deposition Mechanism of SiOx Films Produced by Silicone Oil and Ozone Gas
    (第81回応用物理学会秋季学術講演会、11a-Z10-5、12-205ページ 2020)
  • Deposition of Crystallized Yttria Stabilized Zirconia (YSZ) Films on Cellulose Nanopaper (CNP) Substrates at Low Temperature by Reactive Sputtering
    (第81回応用物理学会秋季学術講演会、10a-Z05-10、05-112ページ 2020)
  • Mechanism Study on Deposition of SiOx Films Produced by Silicone Oil and Ozone Gas
    (The 27th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AM-FPD ’20) P-5, pp. 79 - 82. 2020)
  • Deposition Condition at Low Temperature for Crystallization Enhancement of YSZ Films on Glass Substrates by Reactive Sputtering
    (The 27th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AM-FP ’20) P-8, pp. 85 - 88.D ’20) 2020)
  • Deposition Condition for High Crystalline Fraction of Yttria-Stabilized Zirconia (YSZ) Films Deposited by Reactive Sputtering at Room Temperature
    (第67回応用物理学会春季学術講演会 講演、15a-PB1-1 2020)
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Works (2件):
  • 研究成果活用プラザ石川実用化検討に係る試験研究事業(JST)
    2003 -
  • 研究成果活用プラザ石川実用化検討に係る試験研究事業(JST)
    2002 -
学位 (1件):
  • 工学博士 (東京工業大学)
経歴 (2件):
  • 1988 - Recturer (1988), Associate Professor (1992) at Kanazawa University
  • 1987 - 金沢大学工学部助手 (1987),同講師 (1988),同助教授 (1992)
委員歴 (6件):
  • 電子情報通信学会 一般会員
  • 日本表面学会 一般会員
  • 応用物理学会 一般会員
  • Institute of Electronics Information and Communication Engineers in Japan Member
  • Surface Science Society of Japan Member
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受賞 (5件):
  • 2017/04 - 応用物理学会 第15回APEX/JJAP編集貢献賞
  • 2015/11 - 独立行政法人日本学術振興会 科研費審査委員賞
  • 2013/12 - 第20回国際表示学会(IDW'13) アウトスタンディングポスター論文賞
  • 2012/04 - 応用物理学会 第10回APEX/JJAP編集貢献賞
  • 2003/12/03 - 第10回国際ディスプレイワークショップ ポスター賞
所属学会 (8件):
MRS (Materials Research Society) ,  電子情報通信学会 ,  日本表面学会 ,  応用物理学会 ,  MRS (Materials Research Society) in U.S.A. ,  Institute of Electronics Information and Communication Engineers in Japan ,  Surface Science Society of Japan ,  Japan Society of Applied Physics
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