研究者
J-GLOBAL ID:200901077995207576   更新日: 2024年09月25日

堀田 將

ホリタ ススム | Horita Susumu
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.jaist.ac.jp/ms/labs/handoutai/horita-lab/horita.html
研究分野 (2件): 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (16件): シリコーンオイル ,  オゾン ,  低温Si酸化膜作製 ,  スパッタリング ,  TFT ,  薄膜トランジスタ ,  結晶化Si薄膜 ,  強誘電体薄膜 ,  強誘電体メモリ ,  Si薄膜 ,  薄膜作製 ,  薄膜結晶成長 ,  半導体工学 ,  電子デバイス ,  silicon oxide film ,  laser anneal
競争的資金等の研究課題 (20件):
  • 2021 - 2024 200°C以下の熱処理による低温作製したシリカ膜の電気的絶縁性の飛躍的向上
  • 2016 - 2019 セルロースナノペーパー上の結晶化シリコン薄膜による薄膜トランジスタの作製
  • 2009 - 2011 種結晶層を用いた低温結晶化シリコン薄膜の粒径制御
  • 2003 - 2004 中間電極を用いた新しい動作原理による強誘電体メモリの開発
  • 2004 - シリコーンオイルとオゾンガスを用いた低温シリコン酸化膜の形成
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論文 (109件):
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MISC (5件):
特許 (3件):
  • 非破壊読出し可能な強誘電体メモリデバイス
  • 導電体薄膜の堆積法
  • 半導体装置の製造及び被処理物処理方法
書籍 (3件):
  • 薄膜作製応用ハンドブック
    エヌ・ティー・エス 2020 ISBN:9784860436315
  • 薄膜ハンドブック(第2版)、4・3 誘電特性4・3・1 誘電体薄膜の性質(2)強誘電性
    オーム社 2008
  • 薄膜トランジスタ 、1章(分担)
    コロナ社 2008
講演・口頭発表等 (121件):
  • Effect of ammonia gas in annealing process on reduction of residual OH-bonds and improvement of electrical properties of low-temperature silicon oxide films
    (The 4th International Workshop on Advanced Materials and Devices IWAMD 2023, EMD-I7 2023)
  • 堆積後その場熱処理による低温酸化Si膜中残留OH基量の堆積温度依存性
    (2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, 15p-PA04-2,12-063 2023)
  • Quantitative Evaluation of Low-temperature Si Oxide Films by Derivative FT-IR Spectra
    (The 29th International Display Workshops(IDW' 22), FMCp3-5L, pp. 361-364. 2022)
  • FT-IR微分スペクトルによる低温酸化Si膜中の残留OH基量の評価
    (第83回応用物理学会秋季学術講演会、23a-P04-2、12-292ページ 2022)
  • 反応性スパッタ法により低温堆積したYSZ薄膜の結晶性への基板温度の影響
    (第83回応用物理学会秋季学術講演会、21p-P16-11、05-187ページ 2022)
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Works (2件):
  • 研究成果活用プラザ石川実用化検討に係る試験研究事業(JST)
    2003 -
  • 研究成果活用プラザ石川実用化検討に係る試験研究事業(JST)
    2002 -
学位 (1件):
  • 工学博士 (東京工業大学)
経歴 (2件):
  • 1988 - Recturer (1988), Associate Professor (1992) at Kanazawa University
  • 1987 - 金沢大学工学部助手 (1987),同講師 (1988),同助教授 (1992)
委員歴 (6件):
  • 電子情報通信学会 一般会員
  • 日本表面学会 一般会員
  • 応用物理学会 一般会員
  • Institute of Electronics Information and Communication Engineers in Japan Member
  • Surface Science Society of Japan Member
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受賞 (5件):
  • 2017/04 - 応用物理学会 第15回APEX/JJAP編集貢献賞
  • 2015/11 - 独立行政法人日本学術振興会 科研費審査委員賞
  • 2013/12 - 第20回国際表示学会(IDW'13) アウトスタンディングポスター論文賞
  • 2012/04 - 応用物理学会 第10回APEX/JJAP編集貢献賞
  • 2003/12/03 - 第10回国際ディスプレイワークショップ ポスター賞
所属学会 (8件):
MRS (Materials Research Society) ,  電子情報通信学会 ,  日本表面学会 ,  応用物理学会 ,  MRS (Materials Research Society) in U.S.A. ,  Institute of Electronics Information and Communication Engineers in Japan ,  Surface Science Society of Japan ,  Japan Society of Applied Physics
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