文献

J-GLOBAL ID：200902270353089047   整理番号：08A0333506

28Tに至るまでの超高磁場のもとでイオン液体中光化学反応に及ぼす異常な磁場効果

Anomalous Magnetic Field Effects on Photochemical Reactions in Ionic Liquid under Ultrahigh Fields of up to 28 T

著者 (5件)： HAMASAKI Atom (Saitama Univ., Saitama, JPN) ,  YAGO Tomoaki (Saitama Univ., Saitama, JPN) ,  TAKAMASU Tadashi (National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN) ,  KIDO Giyuu (National Inst. for Materials Sci. (NIMS), Ibaraki, JPN) ,  WAKASA Masanobu (Saitama Univ., Saitama, JPN)
資料名： Journal of Physical Chemistry B  (Journal of Physical Chemistry B)
巻： 112  号： 11  ページ： 3375-3379  発行年： 2008年03月20日 
JST資料番号： W0921A  ISSN： 1520-6106  CODEN： JPCBFK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イオン液体,N,N,N-トリメチル-N-プロピルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド中ベンゾフェノン(BP)とチオフェノール(PhSH)の光誘起水素引抜き反応に及ぼす磁場効果を調べた。28Tに至るまでの超高磁場のもとでNd:YAGレーザの第三高長波355nm照射を用いるナノ秒レーザフラッシュ光分解技法によって,反応:BP+PhSH→ケージド化合物または³(BPH・・SPh)→BPH・+・SPh(逸脱ラジカル)を調べた。極めて大きなしかも異常な段階的磁場効果を初めて観測した。ベンゾフェノンケチルラジカルの逸脱収率は0T<B≦2Tで磁場強度(B)増と共に減少した。減少は2T<B≦10Tでほぼ飽和した。より高磁場10T<B≦28Tで収率は再度Bの増加と共に減少し,28Tで25%減を得た。

シソーラス用語： *芳香族ケトン ,  *チオール ,  光化学反応 ,  引抜反応 ,  *閃光分解 ,  ナノ秒 ,  紫外レーザ ,  *磁場効果 ,  強磁場 ,  ケチル ,  ラジカル反応 ,  イオン液体 ,  Nd-YAGレーザ ,  架橋化合物 ,  芳香族化合物 ,  ケージド化合物 ,  光誘起 ,  磁場強度
準シソーラス用語： 高磁場

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (2件)： チオフェノール ,  ベンゾフェノン

タイトルに関連する用語 (5件)： 高磁場 ,  イオン ,  液体中 ,  光化学反応 ,  磁場効果