大きさ選択したArガスクラスタイオンビームを用いたポリスチレン分子の部位特異フラグメンテーション

MORITANI Kousuke; MUKAI Gen; HASHINOKUCHI Michihiro; MOCHIJI Kozo

文献

J-GLOBAL ID：200902271184096205 整理番号：09A0458402

大きさ選択したArガスクラスタイオンビームを用いたポリスチレン分子の部位特異フラグメンテーション

Site-Specific Fragmentation of Polystyrene Molecule Using Size-Selected Ar Gas Cluster Ion Beam

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資料名：
巻： 2 号： 4 ページ： 046001.1-046001.3 発行年： 2009年04月25日
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

大きさ選択したArガスクラスタイオンビーム(GCIB)を用いて,ポリスチレン薄膜の二次イオン質量スペクトル(SIMS)を調べた。SIMSのフラグメンテーションは原子当りの運動エネルギー(KE)により変化した。ポリスチレンのフラグメント種の二次イオン強度のKE依存性は分子の特異結合部位の解離エネルギーとKEの間の関係に基づいて本質的に三種類に分類できる。これらの結果は大きさ選択GCIBのKEを調節することにより,分子内の部位特異な結合破壊を実現できることを示す。(翻訳著者抄録)

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イオンとの相互作用

引用文献 (17件)：

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