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J-GLOBAL ID：200902271481264842   整理番号：08A1042424

ジルコニウムアノード酸化皮膜の誘電特性に及ぼす添加元素の影響

著者 (3件)： 小山瞬 (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 118th  ページ： 215  発行年： 2008年08月20日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *アノード酸化 ,  酸化膜 ,  *ジルコニウム ,  誘電体 ,  *誘電性 ,  ケイ素 ,  静電容量 ,  蒸着膜 ,  化成皮膜
準シソーラス用語： 酸化皮膜 ,  *誘電特性 ,  シリコン

分類 (1件)： 化成処理  (WC08050J)

タイトルに関連する用語 (4件)： ジルコニウム ,  アノード酸化皮膜 ,  誘電特性 ,  添加元素