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J-GLOBAL ID:200902271864327554   整理番号:09A1252954

水素化ハフニウムの微小硬さと電荷密度の相関

Correlation between microhardness and electronic charge density of hafnium hydrides
著者 (8件):
資料名:
巻: 489  号:ページ: 685-688  発行年: 2010年01月21日 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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α+δ′,δ′,δ,δ+ε及びε相のハフニウム水素化物(HfHx;1.46≦x≦2.02)及び重水素化物(HfDx;1.55≦x≦1.94)の室温における定量的Vickers微小硬さを,Vickers硬度計を用いて測定した。HfHx及びHfDxのVickers微小硬さは水素濃度の増加と共に緩やかに増大し,1.46≦x≦1.70のそれらはα相金属Hfよりも高かった。X線光電子分光(XPS)測定と共に第一原理計算から,HfHx及びHfDxに対する微小硬さの水素濃度依存性が,主としてHfの5dからHの1sへの電荷移動と凝集エネルギーの減少の影響に起因することを明らかにした。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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