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J-GLOBAL ID:200902272019833005   整理番号:06A0890160

β-りん酸三カルシウムの高周波スパッタリングによって形成される薄膜

Thin Films formed by Radiofrequency Sputtering of β-tricalcium phosphate
著者 (9件):
資料名:
巻:号:ページ: 137-142  発行年: 2006年07月 
JST資料番号: L4690A  ISSN: 1347-7021  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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β-りん酸三カルシウムの高周波スパッタリングによる,インプラ...
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分類 (2件):
分類
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歯科材料  ,  その他の無機化合物の薄膜 
引用文献 (20件):
  • 1. Brånemark PI, Hansson BO, Adell R et al. Osseointegrated implants in the treatment of the edentulous jaw. Experience from a 10-year period. Scand Plast Reconstr Surg 11: 1-132, 1977.
  • 2. Adell R, Eriksson B, Lekholm U et al. Long-term follow-up study of osseointegrated implants in the treatment of totally edentulous jaws. Int J Oral Maxillofac Implants 5: 347-59, 1990.
  • 3. Adell R, Lekholm U, Rockler B et al. A 15-year study of osseointegrated implants in the treatment of the edentulous jaw. Int J Oral Surg 10: 387-416, 1981.
  • 4. Weyant RJ, BurtBA. An assessment of survival rates and within-patient clustering of failures for endosseous oral implants. J Dent Res 72: 2-8, 1993.
  • 5. Roumanas ED, Freymiller EG, Chang TL et al. Implant-retained prostheses for facial defects: an up to 14-year follow-up report on the survival rates of implants at UCLA. Int J Prosthodont 15: 325-332, 2002.
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タイトルに関連する用語 (3件):
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