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J-GLOBAL ID：200902272433901810   整理番号：05A0573084

KrFならびにXeClエキシマレーザアニーリングによる酸化すず薄膜の(001)TiO2基板上のエピタキシャル成長

Epitaxial growth of tin oxide films on (001) TiO2 substrates by KrF and XeCl excimer laser annealing
著者 (4件)：
TSUCHIYA T.

TSUCHIYA T. について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN について

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WATANABE A.

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(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)

National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN について

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KUMAGAI T.

KUMAGAI T. について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)

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MIZUTA S.

MIZUTA S. について

(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Central 5, 1-1-1 Higashi Tsukuba 305-8565, JPN)

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資料名：
Applied Surface Science  (Applied Surface Science)

Applied Surface Science について


巻： 248  号： 1-4  ページ： 118-122  発行年： 2005年07月30日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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(001)TiO<sub>2</sub>基板上非晶質SnO<...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*酸化スズ

酸化スズ について

,...
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分類 (2件)：
分類
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酸化物薄膜 
(BK14050P)

酸化物薄膜 について

,  レーザ照射・損傷 
(BK16040S)

レーザ照射・損傷 について

タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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エキシマレーザ

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アニーリング

アニーリング について

, 
酸化すず

酸化すず について

, 
薄膜

薄膜 について

, 
TiO2

TiO2 について

, 
エピタキシャル成長

エピタキシャル成長 について


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