文献

J-GLOBAL ID：200902273101179395   整理番号：07A0130837

熱処理を伴う反応性スパッタリングにより調製したTa-C-Nの酸素還元反応

Oxygen Reduction Reaction of Ta-C-N Prepared by Reactive Sputtering with Heat Treatment

著者 (5件)： KIM Jin-Hwan (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  ISHIHARA Akimitsu (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  MITSUSHIMA Shigenori (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  KAMIYA Nobuyuki (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN) ,  OTA Ken-ichiro (Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
資料名： 電気化学および工業物理化学  (Electrochemistry)
巻： 75  号： 2  ページ： 166-168  発行年： 2007年02月05日 
JST資料番号： G0072A  ISSN： 1344-3542  CODEN： EECTFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 温度領域70~800°Cの範囲での熱処理を伴う反応性R.F.ス...

シソーラス用語： *反応性スパッタリング ,...
準シソーラス用語： 陽極 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=07A0130837&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0072A") }}

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  燃料電池  (YB04040V)

引用文献 (12件)：

• 1) D. Villers, X. Jacques-Bedard, and J. Dodelet, J. Electrochem. Soc., 151, A1507 (2004).
• 2) S. Marcotte, D. Villers, N. Guillet, L. Roue, and J. P. Dodelet, Electrochim. Acta, 50, 179 (2004).
• 3) A. Ishihara, K. Lee, S. Doi, S. Mitsushima, N. Kamiya, M. Hara, K. Domen, and K. Ota, Electrochem. Solid-State Lett., 8, A201 (2005).
• 4) K. Lee, A. Ishihara, S. Mitsushima, N. Kamiya, and K. Ota, Electrochem. Acta, 49, 3479 (2004).
• 5) Y. Liu, A. Ishihara, S. Mitsushima, N. Kamiya, and K. Ota, Electrochem. Solid-State Lett., 8, A400 (2005).

タイトルに関連する用語 (5件)： 熱処理 ,  反応性スパッタリング ,  調製 ,  ta-C ,  酸素還元反応