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J-GLOBAL ID：200902274382570663   整理番号：09A0136208

ガス流パターンの改良によるプラズマプロセス槽内の高速ガス交換

Fast Gas Replacement in Plasma Process Chamber by Improving Gas Flow Pattern

著者 (6件)： MORISHITA Sadaharu (OMRON Corp., Tokyo, JPN) ,  GOTO Tetsuya (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  AKUTSU Isao (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OHYAMA Kenji (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  ITO Takashi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  OHMI Tadahiro (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48  号： 1  ページ： 016003.1-016003.5  発行年： 2009年01月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単一プラズマプロセスの槽内で,精密な制御良好な高スループットのマルチプロセスを実現するのに,種々のガス種の精密な高速度の交換は重要である。N₂をArに,H₂をArに交換するガス交換時間を,マイクロ波励起の高密度で低電子温度のプラズマプロセス槽内で,種々の作用圧とガス流量で測定する。バルプ操作直後の槽内のガス圧のオーバーシュートを防ぐことができる新しいガス流量制御系と,10^-1~10^-4の広い圧力範囲でH₂の様な軽量ガスを含む優れたポンプ能力を維持できる傾斜リードの螺旋ブースターポンプがこの系に含まれる。さらに槽内のガス流パターンを制御するため,プート板上に最適化位置で形成された数千(1200と2400の数)の非常に微細なガス注入孔を持つ上部セラミックシャワー板を採用し,一方マイクロ波励起のプラズマ槽内の従来のガス供給法では層内の片側に開いた多くの孔(ガスリング)のみを使用する。N₂のAr交換において,上部シャワー板が2400個の孔を持つ時,133と13.3Paの場合,約1秒,4Paの場合約3秒の短い交換時間を達成できた。一方ガスリングを使用すると,すべての圧力の場合で約10秒より長い交換時間が必要である。さらに軽量ガス用の傾斜リードの螺旋ブースターポンプの優れたポンプ能力のお陰で,H₂のAr交換時間は,N₂のAr交換のそれと殆ど同じであることを確認した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ ,  *スループット ,  *ガス交換 ,  アルゴン ,  窒素 ,  水素 ,  電子温度 ,  *プラズマ処理 ,  流量 ,  ポンプ

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

引用文献 (15件)：

• M. Nagase, M. Kitano, Y. Shirai, and T. Ohmi: Jpn. J. Appl. Phys.40(2001)5168.
• T. Goto, A. Inokuchi, K. Ishibashi, S. Yasuda, T. Nakanishi, M. Kohno, M. Okesaku, M. Sasaki, T. Nozawa, M. Hirayama, and T. Ohmi: submitted to J. Vac. Sci. Technol. A.
• I. Akutsu and T. Ohmi: J. Vac. Sci. Technol. A 17(1999)3505.
• T. Goto, M. Hirayama, H. Yamauchi, M. Moriguchi, S. Sugawa, and T. Ohmi: Jpn. J. Appl. Phys.42(2003)1887.
• T. Ohmi, M. Hirayama, and A. Teramoto: J. Phys. D 39(2006) R1.

タイトルに関連する用語 (3件)： ガス流 ,  プラズマプロセス ,  ガス交換