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J-GLOBAL ID：200902275615153320   整理番号：05A0341764

マグネトロンスパッタリングによるアナターゼ/ルチル-TiO₂薄膜の調製と特性化 レビュー

Fabrication and characterization of anatase/rutile-TiO₂ thin films by magnetron sputtering: a review

著者 (7件)： TANEMURA Sakae (Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN) ,  MIAO Lei (Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN) ,  WUNDERLICH Wilfried (Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN) ,  TANEMURA Masaki (Nagoya Inst. of Technol., Nagoya, JPN) ,  MORI Yukimasa (NGK Insulators Ltd, Nagoya, JPN) ,  TOH Shoichi (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN) ,  KANEKO Kenji (Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名： Science and Technology of Advanced Materials  (Science and Technology of Advanced Materials)
巻： 6  号： 1  ページ： 11-17  発行年： 2005年01月 
JST資料番号： W1262A  ISSN： 1468-6996  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヘリコンRFマグネトロンスパッタリング法で作製したアナターゼ...

シソーラス用語： ルチル型結晶 ,...
準シソーラス用語： 禁止帯 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (8件)： マグネトロンスパッタリング ,  アナターゼ ,  ルチル ,  TiO2 ,  薄膜 ,  調製 ,  特性化 ,  レビュー